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翟冠杰:突破技术壁垒 领跑MCU领域创新发展

2019-01-04 17:28:58  来源:消费日报网  编辑:郑思雯   责编:郑思雯

  我国微电子领域近年来取得了较快发展,市场规模日益壮大。然而早年间受技术壁垒所限,面临着严峻的技术研发任务和市场竞争压力。面对这一挑战,翟冠杰带领赛元微电子研发团队直面专利研发过程中遇到的技术难题,攻克了原本难以入手的技术壁垒,取得了更上层楼的创新发展。

  赛元微电子多年来专注于MCU集成电路领域的产品研发及创新工作,在创新和技术发展过程中,先进制程研发和专利技术产业化的相关问题始终蔚为突出,成为横亘在翟冠杰面前亟待跨越的鸿沟。

  首先是先进制程研发的问题。集成电路行业存在著名的摩尔定律,虽然MCU相对来说对摩尔定律的跟进速度并没有消费类产品(如手机及音视频产品)快,但先进制程仍然会让产品更快速、更低功耗、更低成本,是产品能否具备竞争力的关键因素,也是影响行业发展的重要一环。赛元微电子成立以来,为提升产品性能从而塑造产品竞争力,每隔3年左右便会有一代制程升级。公司2011年成立以来,迄今已经历了0.35um、0.18um和90nm等几代制程的研发。随着制程更加先进和线宽的降低,IC的工作速度更快、功耗更低、成本也更低了,但在抗干扰、抗静电等可靠性问题上也凸显出了极大的技术困难。

  先进制程意味着研发费用和人力投入成本的大幅增加。一代制程升级的研发成本将高于上一代产品5-10倍,风险系数和研发压力由此可见一斑。集成电路从研发到最终可以向用户销售,中间往往需要经历数年时间,花费数百万甚至千万元人民币以上资金,灌注无数次失败的泪水和重头再来的勇气。团队需要百折不挠的钢铁意志、淡泊财富的达观心态和连绵不断的创新意识方能在无数次的改进升级中实实在在地提升产品性能,以产品说话,加速生活智能化和便捷化。

  专利的产业化同样也要审慎对待。从全球范围内来看,专利多诞生于科研机构内部,被实际使用和产业化的比例很低。赛元微电子深耕于我国著名的创客之城深圳,研发出解决用户实际问题的创新型专利技术成果是首当其冲的责任。当然,从理论迈向实践的过程不会是一蹴而就的,环境和量产问题都是技术革新路途中绕不过去的沟壑。

  若要更进一步地说明专利技术产业化的问题,赛元电容感应水位检测专利的具体产业化就是个形象的例子。传统的水位检测大多依赖机械结构,如马桶的浮球;也有电子开关类结构,如加湿器的干簧管和豆浆机的导电棒;还有饮水机的连通器结构等。赛元的创新专利则采用非接触形势,可以在不接触水的情况下实现水位检测,从而保证了水的卫生状况,产品也更小巧。赛元的水位检测创新产业化,一样经历了原理性创新、实验室成功、产品可行性和具体客户使用等诸多阶段,同时需要解决此过程中的大量问题。包括环境变化、结构安装及环境影响和一致性等问题都是实现大批量生产的拦路虎,都是影响专利能否产业化的重要因素。经过翟冠杰带领团队长期试验,且经过很多用户的量产检验,赛元微电子的水位检测IC SCW8916B终于帮助赛元完成了水位检测技术产业化,历经坎坷,终于成为了名副其实的行业领跑者,为行业发展和进步缔造了杰出贡献。

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